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光学膜涂布生产线

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参数对应数据

适合体系水性溶剂及无机材料

运行基材厚度12-200μm

涂布方式微凹版+狭缝+逗号

张力范围0-50KG(全幅宽)

设备运行速度3-120m/min(涂布速度取决于用户具体工艺)

涂布宽度500-1600mm

涂布厚度0.3-12um

烘箱使用最高温度200℃(加热方式可选)

光学膜涂布生产线


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