蒸镀氧化硅型阻隔性包装薄膜的制备工艺

采用物理蒸镀法(PVC)和化学蒸镀法(CVC)制备了具有阻隔性的氧化硅型包膜。按照具体实施方法的不同，可分为以下几种。下面万瑞博与大家来具体看一看！

1、物理蒸镀。

物理蒸镀又称物理气相沉积，它包括电阻丝蒸镀，电子束蒸镀和溅射蒸镀。其中电阻式蒸镀和电子束蒸镀要求SiO2在高温下蒸发，而溅射沉积采用单元素靶，沉积温度低，沉积速度快，靶材不受限制，镀层质量好。

(1)电阻丝的蒸镀工艺。

电阻丝蒸发镀膜工艺是在真空室中，用电阻丝加热SiO2，温度达到1700℃，高温和真空使SiO2以原子或分子形式从表面蒸发而逸出，形成蒸气气流，蒸气气流沉积在基材表面，形成含有SiOx的阻隔膜。

(2)电子束蒸发器用镀膜法。

电子束蒸发镀膜法是将SiO2置于水冷铜坩埚中，直接用电子束加热，蒸发蒸发，然后在基材表面冷凝，形成含有SiO2的隔膜，用于隔膜包覆。电子束轰击热源时，其束流密度高，能量密度远高于电阻加热源，蒸发温度高(电子束20kW/cm2的加热能量，温度更高达3000~6000℃)，因此尤其适用于制作高熔点薄膜材料和高纯薄膜材料，且蒸发速度快。因为热能可以直接加到蒸镀材料表面，所以热效率高，传热和热辐射损失小，生产出的SiOz包膜的阻隔性比用电阻丝蒸镀方法生产的产品也有明显的提高。

(3)溅射分析。

也被称为磁控溅射或高速低温溅射。采用单元素靶材溅射和注入反应气体的反应过程被称为反应溅射，通过调整沉积工艺参数，可以制备化学比例或非化学比例的化合物薄膜，从而实现通过调整薄膜镀层组成来调整薄膜特性的目的。与蒸发法相比，磁控溅射法具有镀层与基材结合力强，镀层致密均匀等优点。磁控制溅射的其它优点有：设备简单，操作方便，在溅射镀膜过程中，只要保持工作气压和溅射功率不变，基本上就可以达到稳定的沉积速率。主要的缺点是。

由于沉积速度较低，且有可能发生靶毒，导致打火和溅射不稳定以及薄膜缺陷等问题，限制了其应用，因此还需进一步改进。

2.化学镀(PECVD)

化学镀层又称等离子体增强化学气相沉积或等离子体聚合，是指用等离子体的方法生成电子、离子和活性基团，并在气体或基体的表面进行化学反应。利用射频电源产生辉光放电的化学气相沉积技术(射频电源放电可设为连续放电或脉冲放电)，或者用微波放电来离解反应气体，形成等离子体，等离子体与基膜表面发生相互作用沉积成膜。在包装工程中，谷吉海等人对PECVD蒸镀技术的原理、特点、应用以及陶瓷膜蒸镀技术的发展趋势进行了展望。南京住野精工阻隔膜设备有限公司。

利用有机硅化合物作单体[主要是有机硅烷，如六甲基二硅氧烷、四甲基二硅氧烷、八甲基二硅氧烷等]，利用等离子体技术将其分离，然后将其聚合沉积到基材表面，是一种制备SiOx阻隔性包装膜的新方法，该方法具有沉积温度低，沉积速度快的特点，通过改变极板负偏压，可以调节不同颗粒的能量，制备SiOx阻隔性包装膜。近几年来，在等离子体化学领域的研究成果令人瞩目。

南京住野精工机械有限公司是一家集科研、生产、销售于一体的高科技企业，一贯坚持诚信、平等、客户利益至上的经营理念，为了更好地提升设备的品质，步入更专业化规范化的生产轨道。我们分别成立了塑料片材板材、流延、双向拉伸、非织造无纺布熔喷布、淋膜复合，再生造粒环保回收系统和涂布机制造系统等七大类设备的独立研发技术中心和生产部门。提供专业的全套技术方案以满足每位客户的特殊使用需求。其中，关于挤出复合制造系统，即淋膜机，有如下生产线可供定制:PE双层/三层共挤复合生产线，LDPE(三合一)淋膜生产线，PP,PE,PLA双面淋膜复合生产线，铝箔高速淋膜复合生产线，PP纺粘布淋膜复合生产线，纺织衬布淋膜复合生产线，热熔喷胶复合生产线，多层挤压淋膜生产线，石墨烯涂布复合生产线，碳纤维淋膜复合生产线。

公司地址:江苏省南京市江宁区秣陵街道开拓路11号；联系电话:025-5183 9686/133 9078 0291